{"id":2835,"date":"2024-11-11T16:29:58","date_gmt":"2024-11-11T15:29:58","guid":{"rendered":"https:\/\/web.infn.it\/TechTransfer\/?post_type=portfolio_page&p=2835"},"modified":"2024-11-13T12:14:15","modified_gmt":"2024-11-13T11:14:15","slug":"p_20-009","status":"publish","type":"portfolio_page","link":"https:\/\/web.infn.it\/TechTransfer\/portfolio_page\/p_20-009\/","title":{"rendered":"TARGET SOLIDO PER LA PRODUZIONE DI RADIOFARMACI"},"content":{"rendered":"

[vc_row css_animation=”” row_type=”row” use_row_as_full_screen_section=”no” type=”full_width” angled_section=”no” text_align=”left” background_image_as_pattern=”without_pattern”][vc_column][vc_raw_html]JTVCd3BzZW9fYnJlYWRjcnVtYiU1RA==[\/vc_raw_html][vc_empty_space][vc_column_text]<\/p>\n

Target solido per la produzione di radiofarmaci<\/strong><\/h1>\n

[\/vc_column_text][vc_empty_space][\/vc_column][\/vc_row][vc_row css_animation=”” row_type=”row” use_row_as_full_screen_section=”no” type=”full_width” angled_section=”no” text_align=”left” background_image_as_pattern=”without_pattern”][vc_column width=”2\/3″][vc_empty_space][vc_column_text]Metodo per la realizzazione di un target solido con alto livello di scambio termico per la produzione di 99mTc tramite ciclotrone. Il target \u00e8 costituito da un backing plate, inerte e di alta conducibilit\u00e0 termica, e un film ultra-spesso di 100Mo depositato direttamente sul backing plate attraverso la tecnica del magnetron sputtering.[\/vc_column_text][vc_empty_space][vc_single_image image=”2836″ img_size=”full” qode_css_animation=””][vc_empty_space][vc_column_text]<\/p>\n

Come funziona?<\/span><\/h3>\n

[\/vc_column_text][vc_empty_space][vc_column_text]Il backing plate del target complesso viene realizzato brasando in vuoto uno strato sottile di materiale dielettrico, chimicamente inerte, ad una componente metallica ad alta conducibilit\u00e0 termica. La deposizione del materiale precursore per la produzione del radionuclide (ad esempio il 100Mo per la produzione di 99mTc, 89Y per la produzione di 89Zr, etc.) viene effettuata mediante la tecnica magnetron sputtering al fine di ottenere un film a densit\u00e0, uniformit\u00e0, spessore e aderenza elevati direttamente sullo strato chimicamente inerte. L\u2019ottimizzazione dei parametri utilizzati per la tecnica di magnetron sputtering in particolare, pressione di gas inerte, temperature del substrato e deposizione in multistrati, permettono di minimizzare lo stress totale nel sistema e garantire uno spessore elevato del (100\u00b5m-1mm).[\/vc_column_text][vc_empty_space][vc_column_text]<\/p>\n

Applicazioni<\/span><\/h3>\n

[\/vc_column_text][vc_column_text]<\/p>\n