INFN - Sezione di Ferrara
Introduzione
L’attività di acceleratori della sezione di Ferrara si sviluppa su due linee di ricerca: la prima legata allo sviluppo di un nuovo anello di accumulazione elettrostatico per misure di precisione su ricerca di momento di dipolo elettrico ed assioni, la seconda dedicata ad applicazioni della tecnologia dei cristalli in fisica fondamentale ed applicata.
Nella prima attività (sviluppo di un nuovo anello di accumulazione elettrostatico per misure di precisione su ricerca di momento di dipolo elettrico ed assioni) è coinvolto il team dell’Università di Ferrara (UNIFE), composto da:
- Paolo Lenisa (UNIFE staff) – contact person
- Giuseppe Ciullo (UNIFE staff)
- Rahul Shankar (UNIFE postdoc)
- Anna Piccoli (UNIFE PhD studentessa)
La seconda attività (tecnologia dei cristalli in fisica fondamentale ed applicata) vede coinvolti:
- Laura Bandiera (INFN staff) – contact person
- Vincenzo Guidi (UNIFE staff)
- Andrea Mazzolari (UNIFE staff)
- Marco Romagnoni (INFN postdoc)
- Alexei Sytov (INFN Marie Curie Individual Fellow)
- Riccardo Negrello (UNIFE PhD studente)
Nella sezione è anche attiva la seguente strumentazione:
- Interferometro laser Zygo Verifire HDX per misura non distruttiva profili superficiali con precisione nanometrica
- Diffrattometro a raggi-x X’Pert³ MRD XL per caratterizzazione ad alta precisione di qualità cristallografica campioni e misura curvatura cristalli curvi
- Dicer DISCO 3320 taglio e incisione ad alta precisione di wafer/campioni di semiconduttori (Silicio, Germanio, Carburo di Silicio), vetro, ceramiche etc
- Lappatrice Logitech per lucidatura a specchio campioni cristallini e metallici
- Fotolitografia per wafer Ø 100 mm e Ø 150 mm
- Forno a vuoto (120 mm Ø x 350mm), max temp ~350C, min pressione ~1 nbar
- Camere bianche per etching chimico semiconduttori e pulizia wafer
Progetti
- Sviluppo dei cristalli curvi per la collimazione e l’estrazione dei fasci di protoni e ioni per High Luminosity LHC
- Sviluppo di sorgenti di positroni ad alta intensità mediante l’utilizzo di cristalli orientati per il Futuro Collider Circolare e per il Muon Collider (progetto LEMMA)
- Sviluppo di ondulatori cristallini per sorgenti gamma ad alta intensità (progetto EIC-PATHFINDER-OPEN TECHNO-CLS)
Progetti/Collaborazioni Internazionali
PRINCIPALI COMPETENZE SPECIFICHE
- Fasci polarizzati
- Simulazioni di dinamica di fascio e di spin in anelli di accumulazione
- Progettazione e realizzazione di cristalli curvi e ondulatori cristalli mediante tecniche autoportanti
- Progettazione holder meccanici per piegatura di cristalli
- Taglio wafer / campioni ad alta precisione (spessore max 5mm)
- Caratterizzazione prototipi cristallini mediante tecniche di diffrazione a raggi-x e interferometria
- Caratterizzazione profilo superfici riflettenti con precisione nanometrica
- Test compatibilità termica con cicli bake-out sottovuoto
- Fabbricazione di membrane di silicio di spessore 0.1 micron – 60 micron
Contact Person:
- Paolo Lenisa –lenisa@fe.infn.it
- Laura Bandiera – bandiera@fe.infn.it