Metodo per la realizzazione di un target solido con alto livello di scambio termico per la produzione di 99mTc tramite ciclotrone. Il target è costituito da un backing plate, inerte e di alta conducibilità termica, e un film ultra-spesso di 100Mo depositato direttamente sul backing plate attraverso la tecnica del magnetron sputtering.
Come funziona?
Il backing plate del target complesso viene realizzato brasando in vuoto uno strato sottile di materiale dielettrico, chimicamente inerte, ad una componente metallica ad alta conducibilità termica. La deposizione del materiale precursore per la produzione del radionuclide (ad esempio il 100Mo per la produzione di 99mTc, 89Y per la produzione di 89Zr, etc.) viene effettuata mediante la tecnica magnetron sputtering al fine di ottenere un film a densità, uniformità, spessore e aderenza elevati direttamente sullo strato chimicamente inerte. L’ottimizzazione dei parametri utilizzati per la tecnica di magnetron sputtering in particolare, pressione di gas inerte, temperature del substrato e deposizione in multistrati, permettono di minimizzare lo stress totale nel sistema e garantire uno spessore elevato del (100µm-1mm).
Applicazioni
- Target di 100Mo, 89Y, 52Cr, nat,63Cu per la produzione di 99mTc, 89Zr, 52Mn, 62,63Zn;
- Backing plate di target solidi per la produzione di radionuclidi a correnti di ciclotrone elevate;
- Film spessi di metalli refrattari, come Nb per cavità SRF di Cu, oppure W per componenti in grafite per Tokamak, etc.
Vantaggi
- Alta resistenza termomeccanica del target;
- Possibilità di usare correnti elevate di ciclotrone per aumentare la resa di produzione del radionuclide;
- Backing plate inerte garantisce assenza di impurezze;
- Riduzione dei costi di produzione grazie alla tecnica di brasatura